英國牛津 等離子設(shè)備 - Plasmalab System100系列產(chǎn)品
Plasmalab System100是當(dāng)今世界上半導(dǎo)體光電子行業(yè)的主流機(jī)型,預(yù)真空鎖(Load Lock)的配置使我們客戶的產(chǎn)品質(zhì)量得到了很大的提高。
該設(shè)備同樣為模塊化設(shè)計(jì),可以根據(jù)客戶的需要配置成ICP模式、PECVD模式和多真空腔模式,同時(shí)載片量也可以根據(jù)需求從一次處理單片2"直到一次處理7片2"。
Plasmalab System100系列 - PECVD(等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積)配置產(chǎn)品介紹
典型應(yīng)用:
各種介質(zhì)薄膜的沉積(SiO2,SiNx,SiOxNx)
厚膜SiO2,SiNx的沉積
各種摻雜類厚膜沉積(摻Ge,BSG,PSG,BPSG)
SiC薄膜的沉積
無定型Si薄膜的沉積
液態(tài)源(TEOS)厚膜沉積
System100系列 - PECVD(等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積)配置主要配置:
雙頻配置很好的解決了厚膜應(yīng)力問題
205mm或240mm直徑以及400攝氏度或700攝氏度的下電極配置,可以滿足各種工藝需求
外部Gas Pod配置是設(shè)備日常維護(hù)變得非常輕松
發(fā)射光譜(Optical Emmision)EPD配置使真空腔的清洗變得非常簡(jiǎn)單
System100系列 - PECVD(等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積)配置選配件:
預(yù)真空鎖(Load Lock)的干泵配置,維護(hù)簡(jiǎn)單
分子泵配置更徹底的解除了有毒氣體對(duì)操作人員的威脅