80Plus-Failure Analysis等離子設(shè)備性能特點
英國牛津 等離子設(shè)備- Plasmalab 80Plus系列產(chǎn)品介紹
Plasmalab 80Plus是我公司專門為大學(xué)及研究機構(gòu)設(shè)計的小型化產(chǎn)品,被廣泛的應(yīng)用于各種產(chǎn)品的研發(fā)以及小批量生產(chǎn)。它配置了直接開啟式工藝平臺,可以根據(jù)客戶需要將它配置成RIE(反應(yīng)離子刻蝕)、PE(等離子刻蝕)、PECVD(等離子增強型化學(xué)氣相沉積)或ICP(感應(yīng)耦合等離子高密度刻蝕)等模式,應(yīng)用非常靈活。
Plasmalab 80Plus系列 - Failure Analysis配置(uEtch系統(tǒng))產(chǎn)品介紹
典型應(yīng)用:
低傷害聚酰亞胺鈍化蝕刻(體育模式) 低傷害氮化硅鈍化蝕刻(體育模式) IMD的各向異性刻蝕(刻蝕模式) 各向異性電信蝕刻(刻蝕模式) 各向同性的IMD /電信蝕刻(體育模式) 各向同性多晶硅刻蝕( PE或刻蝕模式)
80Plus系列 - Failure Analysis配置(uEtch系統(tǒng))主要配置:
- 硬件和工藝全程自動化控制的基于Windows NT的PC2000控制軟件,全部硬件和工藝均由計算機來控制,操作非常簡便
- RIE/PE雙模式工藝真空腔,可以針對不同刻蝕層靈活選擇刻蝕模式
- 240mm直徑溫度可以調(diào)節(jié)的下電極,最大可以處理8”樣片
- RF繼電器,可以在RIE/PE模式之間靈活切換
- 13.56MHz,30/300W的射頻電源以及緊耦合、低損耗的自動匹配網(wǎng)絡(luò)(Close-coupled Automatic Matching Network),更加保證了工藝的重復(fù)性
- 控制工藝氣體流量及配比的外部Gas Pod,最多可配置6路氣體管路,大大節(jié)約了凈化間的面積
- 反應(yīng)室真空壓力自動控制系統(tǒng)(APC CM Gauge),保證工藝過程壓力的穩(wěn)定
- 大抽速防腐蝕機械泵和羅茲泵泵組,可以快速的達(dá)到工藝試驗所需的真空環(huán)境
80Plus系列 - Failure Analysis配置(uEtch系統(tǒng))選配件:
- 激光干涉終點控制系統(tǒng)(End Point Detector),可以精確控制不同層的刻蝕深度
- 65mm直徑的ICP電源,可以大大提高產(chǎn)品的刻蝕速率同時減小刻蝕對產(chǎn)品的損傷
- 干泵和分子泵組合
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