光普 X熒光光譜儀EDX8000介紹
高精密定位測(cè)量系統(tǒng),用于RoHS檢測(cè)和鍍層檢測(cè)。在鍍層檢測(cè)中,該款儀器可以驚奇地逐點(diǎn)測(cè)試被測(cè)對(duì)象,并給出完整的含量和鍍層的平面分析圖譜。
X熒光光譜儀EDX8000技術(shù)指標(biāo):
分析精度: 0.05%
分析含量范圍:1PPM-99.99%
測(cè)量元素:從硫至鈾等75種元素
測(cè)量對(duì)象:粉末、固體、液體
分析電鍍?nèi)芤褐薪饘匐x子濃度
可分析10層以上的鍍層
測(cè)試鍍層最薄至0.005um
步進(jìn)最小距離:0.01mm
測(cè)量時(shí)間:60~300秒
工作溫度:15~30°C
相對(duì)濕度:< 70%
重量:30KG
工作電壓:AC 110/220V
X熒光光譜儀EDX8000配置:
單樣品腔計(jì)
算機(jī)、噴墨打印機(jī)
硅針半導(dǎo)體探測(cè)器
放大電路
高低壓電源
X光管
雙激光定位系統(tǒng)
50至100倍物體放大